Режим работы двухкаскадного термоэлектрического охлаждающего устройства, обе­с­пе­чи­ва­ю­щий минимальную интенсивность отказов

  • С. В. Дудин Харьковский национальный университет им. В. Н. Каразина, Украина
  • В. А. Лисовский Харьковский национальный университет им. В. Н. Каразина, Украина
  • А. Н. Дахов Харьковский национальный университет им. В. Н. Каразина, Украина
  • B. M. Плетнёв Харьковский национальный университет им. В. Н. Каразина, Украина
Ключові слова: ВЧ емкостный разряд, пла­з­мо­хи­ми­ческое травление полупроводниковых материалов, пла­з­мо­хи­ми­чес­кий реактор

Анотація

В процессе исследований измерены кривые зажигания и области существования разряда для раз­лич­ных рабочих газов (аргон, фреон, кислород). Найдены зависимости постоянного на­пря­же­ния на электроде, возникающего вследствие диодного эффекта в плазме, от ВЧ-на­пря­же­ния, подаваемого на электрод. Измерены радиальные профили плотности тока ионов на об­ра­ба­ты­ва­е­мую поверхность и их поведение при изменении параметров разряда для различных га­зов. Проведено сравнение полученных результатов с расчетами, выполненными с ис­поль­зо­ва­ни­ем двумерной математической модели OOPIC.

Опубліковано
2011-04-28
Як цитувати
Дудин, С. В., Лисовский, В. А., Дахов, А. Н., & ПлетнёвB. M. (2011). Режим работы двухкаскадного термоэлектрического охлаждающего устройства, обе­с­пе­чи­ва­ю­щий минимальную интенсивность отказов. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (1–2), 42-48. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2011.1-2.42
Номер
№ 1–2 (2011): Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Розділ
Articles

Авторське право (c) 2011 Дудин С. В., Лисовский В. А., Дахов А. Н., Плетнёв В. М.

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.