Исследование примесного фотоэффекта в двухбарьерных p–n–m-структурах

  • Д. М. Ёдгорова Физико-технический институт НПО «Физика-Солнце» АН РУз, Ташкент, Узбекистан
  • Ф. М. Ашрапов Физико-технический институт НПО «Физика-Солнце» АН РУз, Ташкент, Узбекистан
Ключові слова: двухбарьерная структура, примесная фоточувствительность, туннельно-инжекционный, генерационно-инжекционный, показатель степени

Анотація

Исследованы спектральная фоточувствительность и механизмы токопереноса в двухбарьерных p(Al0,08Ga0,82)In0,1As-nGaAs:О-Au-структурах при комнатной температуре. Показано, что в зависимости от режима включения имеют место туннельно-инжекционный и генерационно-инжекционный токи. Исследованная двухсторонне чувствительная и работоспособная при любой полярности рабочего напряжения двухбарьерная структура представляет интерес для приема и обработки оптических сигналов в видимой (λ=0,5…0,9 мкм, λ=0,9…1,0 мкм) и ближней ИК (λ=1,0…1,4 мкм, λ=1,4…1,6 мкм) областях спектра, перспективных для оптоэлектроники.

Опубліковано
2006-06-30
Як цитувати
Ёдгорова, Д. М., & Ашрапов, Ф. М. (2006). Исследование примесного фотоэффекта в двухбарьерных p–n–m-структурах. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (3), 40-47. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2006.3.40