СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов

  • В. В. Григорянц Институт радиотехники и электроники, Фрязино, Россия
  • А. П. Долгов Институт радиотехники и электроники, Фрязино, Россия
  • Л. Ю. Кочмарёв Институт радиотехники и электроники, Фрязино, Россия
  • И. П. Шилов Институт радиотехники и электроники, Фрязино, Россия
Ключові слова: планарный оптический волновод, СВЧ-разряд, волноводный СВЧ-плазмотрон

Анотація

Изучены особенности формирования планарных оптических волноводов на основе кварцевого стекла в СВЧ-плазмотроне волноводного типа на H10-моде. Предложенное устройство возбуждения СВЧ-разряда показало свою эффективность при разработке оптических структур состава SiO2–F|SiO2|SiO2–F. На базе полученных оптических волноводов созданы направленные ответвители с матрицей передачи 16×16, предназначенные для использования в волоконно-оптических системах передачи и обработки информации.

Опубліковано
2005-12-30
Як цитувати
Григорянц, В. В., Долгов, А. П., Кочмарёв, Л. Ю., & Шилов, И. П. (2005). СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (6), 39-42. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.6.39
Номер
№ 6 (2005): Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Розділ
Articles

Авторське право (c) 2005 Григорьянц В. В., Долгов А. П., Кочмарёв Л. Ю., Шилов И. П.

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.