Влияние облучения кремния низкоэнергетическими ионами аргона на образование в нем электрически активных дефектов
Анотація
Представлены результаты исследований влияния травления кремния р-типа ионами аргона с энергией 3—6 кэВ на образование электрически активных дефектов (ЭАД) в приповерхностном слое полупроводника. Фоточувствительность диодов Шоттки, сформированных на ионно-травленной поверхности, возрастает, достигая максимальных значений в области ЭАД. Показано, что травление кремния ионами низких энергий является эффективным средством целенаправленной модификации электрофизических свойств его поверхности.
Авторське право (c) 2009 Попов В. М., Шустов Ю. М., Клименко А. С., Поканевич А. П.

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.