Спектры фоточувствительности поверхностно-барьерных структур Ni–n-GaAs

  • Д. Мелебаев Туркменский государственный университет имени Магтымгулы, Ашгабат, Туркменистан
  • Г. Д. Мелебаева Туркменский государственный университет имени Магтымгулы, Ашгабат, Туркменистан
  • Ю. В. Рудь Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе, Санкт-Петербург, Россия
  • В. Ю. Рудь Санкт-Петербургский политехнический университет, Россия
Ключові слова: металл – полупроводник, фоточувствительность, фототок короткого замыкания, высота барьера Шоттки, фаулеровская область спектра

Анотація

Приведены результаты исследования спектров фото­чув­стви­тель­ности полученных структур Ni–n-GaAs в области энергии фотонов h=0,9…2,3 эВ при освещении со стороны полупрозрачного слоя никеля. Впервые экспериментально установлено, что фотоны с энергией h=0,9…1,25 эВ не создают возбужденных электронов в слое Ni, и эмиссия электронов из Ni в GaAs не происходит. Показана перспективность применения фоточувствительных структур Ni–n-GaAs для создания солнечных элементов.

Опубліковано
2008-02-28
Як цитувати
Мелебаев, Д., Мелебаева, Г. Д., Рудь, Ю. В., & Рудь, В. Ю. (2008). Спектры фоточувствительности поверхностно-барьерных структур Ni–n-GaAs. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (1), 31-34. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2008.1.31