Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD

  • A. A. Глушко МГТУ им. Н. Э. Баумана, Россия
  • И. A. Родионов МГТУ им. Н. Э. Баумана, Россия
  • В. В. Макарчук МГТУ им. Н. Э. Баумана, Россия
Ключові слова: моделирование, производство, технологические процессы, КМОП СБИС

Анотація

Рассмотрены особенности технологических процессов изготовления субмикронных КМОП СБИС и их моделирования. Особое внимание уделено моделированию примесного профиля. Моделирование технологических процессов изготовления субмикронных СБИС существенно уменьшает затраты на экспериментальные работы по оптимизации конструкции их элементов, особенно примесных профилей.

Опубліковано
2007-08-30
Як цитувати
ГлушкоA. A., РодионовИ. A., & Макарчук, В. В. (2007). Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (4), 32-34. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.4.32
Номер
№ 4 (2007): Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Розділ
Articles

Авторське право (c) 2007 Глушко А. А., Родионов И. А., Макарчук В. В.

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.