Коррекция оптических эффектов близости при проектировании микросхем

  • И. А. Родионов МГТУ им. Н. Э. Баумана, Россия
  • В. В. Макарчук МГТУ им. Н. Э. Баумана, Россия
Ключові слова: литография, коррекция, эффект близости, моделирование

Анотація

Рассмотрены методы и типы фигур коррекции оптического эффекта близости. Проведено моделирование процесса фотолитографии с использованием рассмотренных фигур. Результаты моделирования подтверждены экспериментом.

Опубліковано
2007-06-29
Як цитувати
Родионов, И. А., & Макарчук, В. В. (2007). Коррекция оптических эффектов близости при проектировании микросхем. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (3), 30-32. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.3.30
Номер
№ 3 (2007): Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Розділ
Articles

Авторське право (c) 2007 Родионов И. А., Макарчук В. В.

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.