Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала

  • Ю. В. Панфилов МГТУ им. Н. Э. Баумана, Россия
  • М. И. Самойлович ЦНИТИ «Техномаш», Москва, Россия
  • Е. В. Булыгина ЦНИТИ «Техномаш», Москва, Россия
Ключові слова: тонкие пленки, фотонный кристалл, опаловая матрица, термическое испарение, ионно-плазменное распыление, ионно-лучевое осаждение

Анотація

Рассмотрено влияние методов термического испарения, ионно-плазменного магнетронного распыления и осаждения тонких пленок из ионного пучка на характеристики поверхности фотонных кристаллов. Приведены схемы процессов формирования тонких пленок на опаловых матрицах и конструкции технологической оснастки. Представлены результаты измерения электрического сопротивления пленок и характеристики топографии поверхности образцов фотонных кристаллов, полученные с помощью атомно-силового микроскопа.

Опубліковано
2005-04-29
Як цитувати
Панфилов, Ю. В., Самойлович, М. И., & Булыгина, Е. В. (2005). Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (2), 49-52. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.2.49
Номер
№ 2 (2005): Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Розділ
Articles

Авторське право (c) 2005 Панфилов Ю. В., Самойлович М. И., Булыгина Е. В.

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.