Получение, свойства и применение тонких нанонеоднородных пленок Ge на GaAs-подложках

  • Е. Ф. Вен­гер Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарёва НАНУ, Киев, Украина
  • П. М. Литвин Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарёва НАНУ, Киев, Украина
  • Л. А. Матвеева Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарёва НАНУ, Киев, Украина
  • В. Ф. Митин Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарёва НАНУ, Киев, Украина
  • B. B. Холевчук Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарёва НАНУ, Киев, Украина
Ключові слова: пленки германия, скорость роста, морфология поверхности, электронные и оптические свойства, внутренние механические напряжения

Анотація

Исследована технология конденсации в вакууме тонких нанонеоднородных пленок Ge на полу­изо­ли­ру­ющие подложки GaAs (100). Использованы методы атомно-силовой микроскопии, оп­ти­чес­кой спектроскопии, измерения внутренних механических напряжений в пленке и ее элек­тро­н­ных свойств. Показана возможность получения тонких нанонеоднородных мо­но­кри­стал­ли­чес­ких бездислокационных пленок с низким уровнем механических напряжений, двумерной пер­ко­ля­ци­он­ной электропроводностью и высокой термической чувствительностью, которые могут быть использованы в ИК и электронной технике.

Посилання

Venger E.F., Konakova R.V., Matveeva L.A. et al. [Germanium films on Gallium arsenide: structural, electronic, and optical properties]. Fizika i khimiya tverdogo tila. 2009, vol. 10, no 2, pp. 315-324. (Ukr)

Mitin V. F. Preparation and properties of heavily doped and strongly compensated Ge films on GaAs. Journal of Applied Physics. 2010, vol. 107, iss. 3, pp. 033720. http://dx.doi.org/10.1063/1.329096.

Mitin V. F., Lazarov V. K., Lytvyn P. M. et al. Tailoring the electrical properties of Ge/GaAs by film deposition rate and preparation of fully compensated Ge films. Physical Review B. 2011, vol. 84, pp. 125316. http://dx.doi.org/0.1103/PhysRevB.84.125316.

Lazarov V. K., Lari L., Lytvyn P. M. et al. Structural study of Ge/GaAs thin films. Journal of Physics: Conference Series 371. 2012, pp. 012040. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/371/1/012040.

Mitin V. F., Lazarov V. K., Lari L. et al. Effect of film growth rate and thickness on properties of Ge/GaAs(100). Thin Solid Films. 2014, vol. 550, pp. 715-722. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.10.049.

Kholevchuk V. V., Kladko V. P., Kuchuk A. V. et al. Study of structure and intrinsic stresses of Ge thin films on GaAs. Proceedings of the International Conference “Nanomaterials: Application and Properties”. Ukraine, Alushta. 2013, vol 2, no 1, pp. 01PC120.

Goffman R.U. [Mechanical properties of thin condensed films]. In book: Fizika tonkich plenok [Physics of Thin Films]. Ed. by: V. G. Khass, R. E. Tun. Moscow. Mir. 1968, pp. 225-298. (Rus)

Lastovickova M. Some differences in the exponential tail behaviour of the fundamental absorption edge in amorphous and crystalline materials. Czech. J. Phys. B. 1972, vol. 22. pp. 418-424.

Skinner B., Chen T., Shklovskii B.I. Why is the bulk resistivity of topological insulator so small? Phys. Rev. Lett. 2012, vol.109, pp. 176801. http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevLett.109.176801.

Chen T., Shklovskii B. I. Anomalously small resistivity and thermopower of strongly compensated semiconductors and topological insulators. Phys. Rev. B. 2013, vol. 87, pp.165119. http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.87.165119.

Dunlap W. C. Some properties of high resistivity p-type germanium. Phys. Rev. 1950, vol. 79, pp. 286-292.

Morin F. J. and Maita J. P. Conductivity and Hall effect in the intrinsic range of germanium. Phys. Rev. 1954, vol. 94, pp. 1525-1529.

Опубліковано
2014-08-29
Як цитувати
Вен­герЕ. Ф., Литвин, П. М., Матвеева, Л. А., Митин, В. Ф., & ХолевчукB. B. (2014). Получение, свойства и применение тонких нанонеоднородных пленок Ge на GaAs-подложках. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (4), 39-44. https://doi.org/10.15222/TKEA2014.4.39