Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

  • Ю. Н. Ховерко Национальный университет «Львовская политехника», Львов, Украина
Ключові слова: поликремний, КНИ-структура, лазерная рекристаллизация, датчик, электронное облучение, магнетосопротивление

Анотація

Исследовались вольт-амперные характеристики металлических контактов (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства. Измерения ВАХ металлических контактов проводились с помощью трехзондового метода. Установлено, что контакт индия на тонких пленках TiO2 обладает четко выраженными омическими свойствами.

Опубліковано
2010-12-26
Як цитувати
Ховерко, Ю. Н. (2010). Свойства металлических контактов на пленках TiO2, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (5–6), 63-66. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2010.5-6.63
Номер
№ 5–6 (2010): Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Розділ
Articles

Авторське право (c) 2010 Ховерко Ю. Н.

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.