Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей

  • O. A. Федорович Институт ядерных исследований НАН Украины, Киев, Украина
  • М. П. Кругленко Институт ядерных исследований НАН Украины, Киев, Украина
  • Б. П. Полозов Институт ядерных исследований НАН Украины, Киев, Украина
Ключові слова: плазмохимический реактор, плазмохимическое травление, монокремний, скорость травления, ток разряда, фотоэлектрические преобразователи

Анотація

Описаны результаты технологических исследований плаз­мо­хи­ми­чес­ко­го ре­ак­то­ра (ПХР) для трав­ле­ния тор­цов фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей. При­ве­де­ны за­ви­си­мос­ти ско­рос­ти трав­ле­ния крем­ния от то­ка раз­ря­да, на­пря­жен­нос­ти маг­нит­но­го по­ля, ве­ли­чи­ны пло­ща­ди об­ра­ба­ты­вае­мой по­верх­нос­ти и сос­та­ва ра­бо­че­го га­за в ре­ак­то­ре. Да­ны ре­ко­мен­да­ции по ис­поль­зо­ва­нию ПХР в про­мыш­лен­ном про­из­вод­стве. ПХР, раз­ра­бо­тан­ный в ИЯИ, по про­из­во­ди­тель­нос­ти пре­вос­хо­дит луч­ший за­ру­беж­ный ана­лог фир­мы «Alkatel» бо­лее чем в два раза.

Опубліковано
2009-12-28
Як цитувати
ФедоровичO. A., Кругленко, М. П., & Полозов, Б. П. (2009). Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (6), 46-49. вилучено із https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46
Номер
№ 6 (2009): Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Розділ
Articles

Авторське право (c) 2009 Фе­до­ро­вич О. А., Круг­лен­ко М. П., По­ло­зов Б. П.

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.