Закономерности формирования пучка ионов низ­кой энер­гии при по­мо­щи од­но­се­точ­ной ион­но-оп­ти­чес­кой сис­те­мы

Анотація

Экспериментально изучены закономерности формирования пуч­ка ио­нов низ­кой энер­гии при по­мо­щи од­но­се­точ­ной ион­но-оп­ти­чес­кой сис­те­мы с ис­поль­зо­ва­ни­ем ВЧ ин­дук­ци­он­но­го ис­точ­ни­ка ио­нов. Об­на­ру­же­но два ре­жи­ма из­вле­че­ния ио­нов: пуч­ко­вый и плаз­мен­ный, пе­ре­ход меж­ду ко­то­ры­ми про­ис­хо­дит при не­ко­то­ром кри­ти­чес­ком по­тен­циа­ле плаз­мы ин­дук­ци­он­но­го раз­ря­да. Про­ве­де­ны чис­лен­ные оцен­ки, по­зво­ля­ю­щие оп­ре­де­лить ве­ли­чи­ну кри­ти­чес­ко­го по­тен­циа­ла для раз­лич­ных ус­ло­вий. По­ка­за­но, что ис­точ­ник ио­нов с од­но­се­точ­ной ИОС при низ­ких энер­ги­ях пуч­ка мо­жет слу­жить так­же и ис­точ­ни­ком элек­тро­нов. По­лу­чен­ные в дан­ной ра­бо­те за­ко­но­мер­нос­ти поз­во­ля­ют це­ле­нап­рав­лен­но уп­рав­лять со­от­но­ше­ни­ем по­то­ков ио­нов и элек­тро­нов на об­ра­ба­ты­вае­мую по­верх­ность.